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多晶硅鑄錠爐擴(kuò)容后的安全性分析及安全措施研究

本文針對目前主流的多晶硅鑄錠爐裝爐量與設(shè)備安全性進(jìn)行分析，通過強(qiáng)度變形量計算及熱力學(xué)分析與目前的各種安全措施進(jìn)行比較，從而提出比較理想的安全改進(jìn)措施。

退火處理對La0.6Sr0.4MnO3/Fe-Ni 復(fù)合物吸波性能的影響

采用溶膠- 凝膠法制備La0.6Sr0.4MnO3，真空球磨法制備FeNi3 合金，將FeNi3 合金與La0.6Sr0.4MnO3按比例混合進(jìn)行真空球磨復(fù)合，后對復(fù)合樣品進(jìn)行退火。

中間層類型對類金剛石涂層鍵合結(jié)構(gòu)和性能的影響行為

射頻磁控濺射法ZnO薄膜制備工藝的優(yōu)化

在采用射頻磁控濺射在Si 和玻璃襯底上制備單層ZnO 薄膜時，薄膜會受到濺射功率、襯底溫度、氧氬比以及工作氣壓等的影響。本文中將詳細(xì)討論這些因素對ZnO薄膜晶體質(zhì)量，應(yīng)力以及光學(xué)性能的影響。

基于分子蒸餾原理的金屬銫提純實驗系統(tǒng)研制

為了研究分子蒸餾方法對金屬銫內(nèi)雜質(zhì)元素的去除性能，研制了一套基于分子蒸餾原理的金屬銫提純系統(tǒng)—刮膜式分子蒸餾系統(tǒng)，開展金屬銫提純實驗研究。

新型節(jié)能玻璃真空鍍膜機(jī)將在建筑行業(yè)發(fā)揮巨大功效

低輻射玻璃與多功能鍍膜玻璃又稱保溫玻璃，具有最大的日光透射率和最小的反射系數(shù)，提高了能量利用率，在采暖建筑中可起到保溫與節(jié)能的作用。

國內(nèi)首臺大直徑盾構(gòu)機(jī)用真空吸盤在鐵建重工研制成功

盾構(gòu)機(jī)用大噸位真空吸盤在鐵建重工試制成功并通過廠內(nèi)驗收，得到客戶的認(rèn)可，成為國內(nèi)首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的大直徑盾構(gòu)機(jī)用真空吸盤，填補了國內(nèi)主機(jī)企業(yè)自制管片真空吸盤的空白。

真空管道交通 - 人類交通困境的有效解決途徑

技術(shù)分析與科學(xué)研究表明，真空管道高速磁浮交通具有獨特的優(yōu)良性能，可望從根本上解決交通運輸所面臨的一系列問題。

提高含硅納米晶LED亮度的方法研究

本文研究了Si-nc濃度、襯底材料的電阻率、Si-nc與不同基體之間的界面勢壘、場效應(yīng)、電致表面等離子體等方法對硅納米晶的電致發(fā)光強(qiáng)度的影響。

真空感應(yīng)熔煉技術(shù)的發(fā)展及趨勢

介紹了真空感應(yīng)熔煉技術(shù)的發(fā)展過程以及感應(yīng)冶煉技術(shù)在不同場合的應(yīng)用。針對不同真空感應(yīng)爐爐型的結(jié)構(gòu)，比較各自優(yōu)劣勢。展望未來真空感應(yīng)爐的發(fā)展方向，闡述其發(fā)展趨勢。

氧分壓對直流磁控濺射IGZO薄膜特性的影響

本文采用直流磁控濺射技術(shù)，在室溫下通過改變氧分壓的工藝條件制備了IGZO 薄膜，系統(tǒng)性的分析了氧分壓對薄膜的物相結(jié)構(gòu)、表面形貌、元素結(jié)合能及電學(xué)與光學(xué)等特性的影響。

真空條件下硫蒸氣的從頭算分子動力學(xué)模擬

本文對硫在高溫、真空下可能發(fā)生的反應(yīng)進(jìn)行了熱力學(xué)計算，同時采用DFT的從頭算分子動力學(xué)方法對硫原子團(tuán)簇進(jìn)行動力學(xué)模擬，得到模擬前后硫原子團(tuán)簇的結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定性的變化，并進(jìn)一步計算得到S2分子在高溫、真空下的蒸

從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機(jī)市場

真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。本文從從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機(jī)市場的發(fā)展情況。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類

PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。

硬質(zhì)涂層的發(fā)展、現(xiàn)狀及未來

未來隨著工業(yè)需求的不斷增加，對硬質(zhì)涂層的要求也將愈發(fā)嚴(yán)格。未來的涂層將有兩大趨勢：超硬涂層和低摩擦系數(shù)涂層。

眼鏡鍍膜有什么好處？

眼鏡鍍膜有什么好處？本文講述了眼鏡鍍膜的優(yōu)缺點及作用。

盤點玻璃手機(jī)鏡片的分類與制作工藝

本文講述了玻璃手機(jī)鏡片常用制作工藝及分類相關(guān)的知識。

42CrMo鋼空氣離子氮氧共滲研究

本研究探索普通空氣是否可作為離子氮氧共滲的氧氣源，并系統(tǒng)研究不同空氣流量對42CrMo鋼離子氮氧共滲復(fù)合滲層組織與性能的影響，探討離子氮氧共滲復(fù)合處理機(jī)理

化學(xué)氣相沉積/原子層沉積銅前驅(qū)體的研究進(jìn)展

本文介紹了利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)與原子層沉積技術(shù)沉積銅薄膜工藝的研究；概述了應(yīng)用所述前驅(qū)體進(jìn)行銅薄膜沉積的參數(shù)及所制備銅薄膜的導(dǎo)電性能。

真空斷路器真空度與電場電位關(guān)系研究

本文借助于有限元分析軟件ANSYS對不同壓強(qiáng)下的真空斷路器滅弧室屏蔽罩及其周圍電場進(jìn)行仿真分析，并通過模擬滅弧室真空測量實驗對分析結(jié)果進(jìn)行驗證，借此探索出真空斷路器滅弧室內(nèi)真空度與滅弧室外電場電位間的對應(yīng)