真空基礎(chǔ)
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一種應(yīng)用于AC PDP的反gamma校正與動(dòng)態(tài)對(duì)比度增強(qiáng)相結(jié)合的新方法
提出了一種應(yīng)用于AC PDP 上的反gamma校正與可控動(dòng)態(tài)對(duì)比度增強(qiáng)相結(jié)合算法。
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大平均功率螺旋線行波管的研制
大平均功率螺旋線行波管采用無(wú)截獲柵控電子槍、帶相速跳變的慢波系統(tǒng)、PPM 聚焦系統(tǒng)、兩級(jí)降壓收集極和強(qiáng)迫風(fēng)冷。
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動(dòng)態(tài)漸變技術(shù)螺旋線行波管三維非線性互作用的計(jì)算
基于場(chǎng)論模型建立螺旋線行波管多頻三維非線性自洽方程,采用等離子體粒子模擬的方法研究行波管中的空間電荷場(chǎng),開(kāi)發(fā)出半解析半粒子模擬的互作用程序。
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ZnO一維納米材料在Cu-Zn合金基片上的大面積直接生長(zhǎng)及場(chǎng)發(fā)射性能研究
以Cu-Zn合金片為基底并提供Zn源,在較低的溫度下進(jìn)行氧化處理,直接在Cu-Zn合金片上大面積地生長(zhǎng)出不同形貌的ZnO 一維納米材料,包括納米線、納米帶、納米棒及納米帶準(zhǔn)定向陣列等。
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金屬Ni基片上碳納米管的合成及場(chǎng)發(fā)射性能研究
碳納米管(CNTs)有高的機(jī)械強(qiáng)度、奇特的電學(xué)性能、優(yōu)良的儲(chǔ)氫能力等一系列的物理化學(xué)性質(zhì),在復(fù)合材料、納米電子學(xué)器件、微型傳感器、電動(dòng)機(jī)械裝置等方面具有廣闊的應(yīng)用前景。
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第一性原理研究PDP放電單元MgO保護(hù)層各種空缺對(duì)二次電子發(fā)射系數(shù)的影響
利用第一原理的方法來(lái)計(jì)算了完整MgO以及含F(xiàn)、F+ 、F 2+ 空缺的MgO 晶體的電子結(jié)構(gòu)的變化情況,通過(guò)對(duì)能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度分布的計(jì)算,可以看到MgO 形成氧空缺后在禁帶中引入了能級(jí)。
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介質(zhì)阻擋穩(wěn)態(tài)絲狀放電數(shù)值模擬
主要通過(guò)流體模型對(duì)介質(zhì)阻擋放電過(guò)程進(jìn)行數(shù)值模擬,分析了pd 值較小條件下DBD 的穩(wěn)態(tài)絲狀放電過(guò)程。
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常壓介質(zhì)阻擋放電對(duì)聚苯乙烯表面改性研究
通過(guò)接觸角測(cè)量、原子力顯微鏡(AFM)觀察和X射線光電子能譜(XPS)分析,研究了空氣等離子體處理前后聚苯乙烯PS薄膜的表面性能的變化。
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X波段三間隙耦合腔型輸出回路間隙阻抗的模擬計(jì)算
通過(guò)Ansoft HFSS軟件模擬的手段,在X 波段設(shè)計(jì)了一個(gè)三模重疊的三間隙耦合輸出腔,討論了群時(shí)延和間隙阻抗之間的相互關(guān)系,分析了群時(shí)延對(duì)間隙阻抗頻率特性的影響
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等離子冷床爐熔煉高密度夾雜物去除研究
冷床爐是一個(gè)開(kāi)放的系統(tǒng),由于將熔化、精煉、凝固過(guò)程分離,不但可以實(shí)現(xiàn)各個(gè)過(guò)程的獨(dú)立、精確控制,而且去除高密度夾雜物效果明顯,在許多方面具有VAR 所無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。
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空氣中均勻介質(zhì)阻擋放電研究進(jìn)展
對(duì)空氣中均勻DBD研究現(xiàn)狀的綜述在討論均勻DBD的產(chǎn)生方法、機(jī)理以及診斷手段基礎(chǔ)上,從電源類(lèi)型、電極結(jié)構(gòu)及預(yù)電離技術(shù)等方面綜述了空氣中均勻DBD的研究現(xiàn)狀。
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利用直流輝光放電等離子體改善聚氯乙烯細(xì)管內(nèi)表面親水性的研究
采用低氣壓氬氣直流輝光放電等離子體對(duì)PVC 細(xì)管內(nèi)表面進(jìn)行了處理,使其內(nèi)表面親水性得到顯著改善,且處理效果均勻。
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真空度對(duì)陰極材料微結(jié)構(gòu)影響的電子顯微分析
行波管內(nèi)的真空度下降,發(fā)射物質(zhì)與空氣中的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),直接導(dǎo)致陰極表面的顯微結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,影響陰極的發(fā)射性能和使用壽命。
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不同真空處理時(shí)間對(duì)SOD、HRP和α-AMY活性的影響
在離子注入生物效應(yīng)的研究中,應(yīng)該考慮真空對(duì)生物體所產(chǎn)生的影響,不能完全歸之于注入離子的生物效應(yīng)。
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模擬研究常閉和常開(kāi)工作模式下的平面柵極型碳納米管場(chǎng)發(fā)射電子源
通過(guò)對(duì)常閉和常開(kāi)工作模式下平面柵極型碳納米管場(chǎng)發(fā)射電子源中陰極電極斑條表面電場(chǎng)分布的計(jì)算,證實(shí)了兩種工作模式下該電子源都具有良好的柵控能力。
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真空室內(nèi)表面鍍TiZrV抽氣層的性能研究
采用直流磁控反濺射法在不銹鋼真空管道內(nèi)表面均勻鍍上一層TiZrV 薄膜。該薄膜經(jīng)過(guò)激活后具有抽氣效應(yīng),能夠使真空管道由原來(lái)的系統(tǒng)氣載轉(zhuǎn)變成為管道泵。
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