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真空應用

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

平直型真空吸盤的工作原理與實際應用

介紹了平直型真空吸盤的工作原理、技術參數(shù)等,并指出平直型真空吸盤的選型要求及其使用注意事項,利于推廣應用。
真空吸盤吸持物體的動力學分析

真空吸盤的動態(tài)設計使吸盤的工作更安全可靠。在對吸盤兩個典型工位的受力進行靜態(tài)和動態(tài)分析和比較的基礎上，為真空吸盤的設計應用提供更科學、更安全的設計依據(jù)。
泵送混凝土施工方法

真空輸送工藝的改進與革新，例如混凝土超遠距離泵送施工工藝，技術上是可行的，而從經(jīng)濟上分析，能降低能耗，減少人工與機械投入，從而節(jié)約成本，提高功率。
退火溫度對氧化鎳(NiO)薄膜的影響

隨著退火溫度的升高，薄膜的晶粒尺寸增大，晶粒大小約10~60nm；500℃退火條件下制得的NiO 薄膜組成和結(jié)構(gòu)較好，具有良好的電化學循環(huán)穩(wěn)定性，有望成為高性能的全固態(tài)薄膜鋰電池陽極材料。
直流濺射并結(jié)合熱處理工藝制備氧化鎳薄膜

采用直流濺射并結(jié)合熱處理工藝在400～500℃退火溫度下制備了表面光滑、結(jié)構(gòu)致密、無微孔和裂縫的納米晶NiO 薄膜.
反應濺射AlN 薄膜的動態(tài)特性

反應磁控濺射方法制備AlN薄膜是一種很普遍的方法,為了增強對該過程的理解,建立了反應濺射過程的動態(tài)模型.應用該模型分析了當?shù)髁吭黾踊驕p少時,過程中的各個參數(shù)隨時間變化的瞬態(tài)行為.
二氧化硅在真空低價法制備鋁過程中的歧化行為研究

引入“物質(zhì)吉布斯自由能函數(shù)法”討論在低價氟化法制備鋁過程中,二氧化硅在不同壓力和溫度下生成低價氧化硅及其分解的熱力學條件并進行了實驗驗證。
氟化非晶碳膜的微結(jié)構(gòu)分析

利用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)法,在不同的溫度下制備了氟化非晶碳膜.采用原子力顯微鏡(AFM)、X 射線光電子能譜(XPS)和傅里葉紅外吸收光譜(FTIR)等儀器對薄膜微結(jié)構(gòu)進行了表征.
氧化銦錫(ITO)防靜電薄膜的性能測試分析

研究了輻照試驗前后ITO 樣品的光電性能變化，并用XPS和AFM對其組分及表面形貌變化進行了分析。結(jié)果表明，輻照后ITO薄膜的光學透過率變化不大；表面電阻有一定增加，但幅度不大，完全可以滿足防靜電的要求。
氧化銦錫(ITO)防靜電薄膜的制備方法

利用ITO陶瓷靶及射頻磁控濺射工藝制備了氧化銦錫(ITO)防靜電薄膜。
真空管的常見運行維護

真空管的常見運行維護包括真空管截流過電壓、重燃過電壓及其防護；嚴格控制真空管的觸頭開、合速度；嚴格控制真空管的觸頭行程；真空管的檢查等方面內(nèi)容。
真空管觸頭開距的調(diào)整方法

常用的萬用表和小燈泡法來調(diào)整真空管觸頭，使其開距、超程達到規(guī)定要求,并使三相真空管同步。
真空管的結(jié)構(gòu)及滅弧原理

真空管大致可分為斷路器用真空管、負荷開關用真空、接觸器用真空管。其結(jié)構(gòu)基本上都是由絕緣外殼,金屬屏蔽罩、波紋管、動靜觸頭、動靜觸桿以及其他零部件組成。
真空超導的應用范圍和利用價值

真空超導的應用范圍很廣泛。
真空超導的傳熱特性

真空超導是在“真空”狀態(tài)下，使介質(zhì)（超導液）發(fā)生相變，而產(chǎn)生“超導”現(xiàn)象。
什么叫“真空超導”？

所謂“真空超導”，就是傳統(tǒng)上所說的“熱管”。
真空管的常見分類及結(jié)構(gòu)演變

真空管主要分為直熱式真空管和旁熱式真空管。按照它的內(nèi)部結(jié)構(gòu)又可分為二極管、三極管等，按照容器結(jié)構(gòu)分為球形管、GT管、花生管、拇指管等。
圖解真空管(二極管和三極管)的運作原理

圖解了真空二極管和真空三極管的基本結(jié)構(gòu)和原理。以及解釋了真空管為什么要抽真空的原因。
常見真空管的結(jié)構(gòu)和功能

真空管(Vacuum tube)是一種電子元件,參與工作的電極被封裝在一個真空的容器里。本文就常見的三極管和五極管來講解真空管之結(jié)構(gòu)。
真空管的基本性質(zhì)介紹

真空管共由4種基本構(gòu)件組成：極對燈絲(Filament) (加熱用)、陰極(Cathode)、柵極(Grid)和陽極(Anode)。當極對燈絲連上電壓對陰極加熱，激發(fā)陰極電子通過柵極打在陽極上。