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真空應(yīng)用

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。

ZnO∶Mo薄膜的光學(xué)性能研究

ZMO薄膜的光禁帶寬度Eog約為3.41eV, 在可見光范圍內(nèi)平均透過率達(dá)80%左右。
ZnO∶Mo薄膜的電學(xué)性能分析

ZMO薄膜的電阻率隨Mo離子摻雜量的增大而減小,在Mo 摻雜1.5wt% 時薄膜電阻率最小,為1.97 ×10 -3 Ω·cm, 而大于1.5wt% 時薄膜的電阻率逐漸增大
ZnO∶Mo薄膜的結(jié)構(gòu)分析

ZMO薄膜的c軸比體材料ZnO的c 軸拉長了;并且隨著摻雜量的增加,c 軸有繼續(xù)增長的趨勢,即晶面間距也有增大的趨勢。
新型透明導(dǎo)電ZnO∶Mo薄膜的制備

采用直流磁控反應(yīng)濺射技術(shù)成功制備了新型ZnO∶Mo(ZMO) 透明導(dǎo)電薄膜。研究了鉬摻雜量和基片溫度等參數(shù)對ZMO薄膜結(jié)構(gòu)和光電性能的影響。
真空法輸送酸堿液系統(tǒng)在水處理中的應(yīng)用

結(jié)合實踐介紹真空法輸送酸堿液系統(tǒng), 著重分析實際應(yīng)用中遇到的問題, 并對抽真空系統(tǒng)的設(shè)備選型進行詳細(xì)的說明。
分水降壓提高鹵井產(chǎn)能減少采鹵泵故障

以采輸鹵廠老泵房主管改造為例，探討用合適的采鹵壓力來提高采鹵量，減少采鹵泵故障的問題。
高純度藥用鹽關(guān)鍵工序操作技術(shù)介紹

通過多年的工作實踐，對傳統(tǒng)藥用鹽生產(chǎn)工藝、設(shè)備、技術(shù)等不斷進行改造、更新，不但使藥用鹽產(chǎn)品質(zhì)量在國內(nèi)同行業(yè)中處于領(lǐng)先位置，同時依據(jù)本技術(shù)生產(chǎn)的高純度藥用鹽質(zhì)量已完全符合發(fā)達(dá)國家標(biāo)準(zhǔn)，大大提高了產(chǎn)品的市
高純度藥用鹽生產(chǎn)工藝流程

首先將原料鹽（即普通工業(yè)用鹽）倒入化鹽槽內(nèi)制備成飽和鹵水（簡稱粗鹵，下同），用泵輸送至反應(yīng)沉降器。
真空吸盤吊的真空系統(tǒng)的常見故障分析

真空吸盤吊的真空系統(tǒng)出現(xiàn)故障一般表現(xiàn)為系統(tǒng)真空度不足，起吊重量下降，鋼板易脫落。本文就真空吸盤吊的各種故障給出解決的方案。
真空吸盤吊的真空系統(tǒng)的工作原理

真空吸盤吊的真空系統(tǒng)配置三臺真空泵，每臺真空泵各聯(lián)通一條管路分別到達(dá)真空吸盤的內(nèi)圈和外圈，同時工作，相互獨立。真空度形成順序：吸盤腔→手動球閥→電接點真空表→空濾器→真空電磁換向閥→真空表→真空擋板閥
蜜餞食品的真空加工技術(shù)

本文對蜜餞食品的真空加工技術(shù)進行了試驗研究, 介紹了設(shè)備的結(jié)構(gòu)和工作原理, 提出了在真空機制下加工物料的方法。
真空杯常用的環(huán)狀和粉末狀釬焊焊料

敘述了真空保溫杯的種類, 保溫時間及使用壽命, 聯(lián)合設(shè)計三室真空釬焊爐的優(yōu)點以及真空杯的釬焊焊料、結(jié)構(gòu)。
真空保溫杯的保溫時間及使用壽命

無尾真空保溫杯是在真空釬焊爐中, 通過抽真空、真空釬焊、然后冷卻出爐、電解、拋光、包裝等工序而成。
真空管道運輸系統(tǒng)對未來真空產(chǎn)業(yè)的影響

真空管道運輸系統(tǒng)的建設(shè)與應(yīng)用, 將給真空產(chǎn)業(yè)創(chuàng)造巨大的市場空間, 是真空產(chǎn)業(yè)、真空科學(xué)與技術(shù)發(fā)展的新機遇。
真空管道運輸系統(tǒng)對真空技術(shù)的要求

真空技術(shù)、設(shè)備和配件是真空管道運輸系統(tǒng)必不可少的組成部分, 而且在整個系統(tǒng)中占很大比重。
真空管道運輸概念及發(fā)展歷程

真空管道運輸線路由雙方向的兩根管道組成,可以走地上或地下, 也可以高架。兩根管道可以平排, 也可豎排。管道內(nèi)徑1.5～2. 0m , 并抽成一定的真空。
常見的改善鑄鐵件整體性能的熱處理方式

為改善鑄鐵件整體性能常有消除白口退火，提高韌性的球墨鑄鐵退火，提高球墨鑄鐵強度的正火、淬火等。鑄鐵件熱處理只能改變基體組織，不能改變石墨的形態(tài)及分布，機械性能的變化是基體組織的變化所致。
類金剛石薄膜的反應(yīng)離子刻蝕的最佳刻蝕條件

研究了類金剛石薄膜的反應(yīng)離子刻蝕工藝。對刻蝕工藝參數(shù)如刻蝕時間、有無掩膜、反應(yīng)氣體的混合比、負(fù)偏壓等對刻蝕的影響做了較詳盡的研究。根據(jù)刻蝕規(guī)律。成功制備出“獨立”微齒輪, 并進行組裝。
工藝參數(shù)對類金剛石薄膜刻蝕速率的影響

工藝參數(shù)對類金剛石薄膜刻蝕速率的影響,刻蝕率相對穩(wěn)定基本不隨時間變化,有無掩膜對刻蝕率影響不大,刻蝕率隨著氬體積百分含量的增大而降低。隨著負(fù)偏壓的增大先增大后減小。
類金剛石薄膜的反應(yīng)離子刻蝕實驗

本文對電子回旋共振(electron cyclotronresonance,ECR) 微波反應(yīng)離子刻蝕類金剛石薄膜進行研究,研究了主要工藝參數(shù)對刻蝕率的影響,刻蝕出結(jié)構(gòu)完整、失真度小、獨立的微齒輪,并進行了組裝。